2019年07月22日

特許庁から「特許行政年次報告書2019年版」が公表されました。

 特許庁から「特許行政年次報告書2019年版」が公表されました。最新の特許庁における統計情報や取組みが記載されています。
 昨年、日本では、特許出願の審査に9.3ヵ月、意匠登録出願の審査に6.1ヵ月、商標登録出願の審査に7.6ヵ月かかっているとのことです。今年は元号が変わったこともあって、知的財産の観点から平成時代を振り返る特集もあり、大変興味深い内容です。
 右記特許庁のウェブサイト(https://www.jpo.go.jp/resources/report/nenji/2019/index.html#toukei_shiryou)よりご覧頂けます。
 The Japan Patent Office has published a 2019 report on the patent system.
 According to this report, in Japan last year, it took 9.3 months to examine patent applications, 6.1 months to examine design registration applications, and 7.6 months to examine trademark registration applications.
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posted by 中川特許事務所 at 17:47| Comment(0) | 日記
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