2019年05月20日

「特許法等の一部を改正する法律案」が成立し公布されました。

 「特許法等の一部を改正する法律案」が可決・成立し、公布されました。
 今回の法改正では、産業財産権法全般について、1.中立的な立場の専門家が現地調査を行う制度の創設、2.損害賠償額のより適切な算定方法の規定に関し、改正が行われました。
 特に、意匠法については、1.保護対象の拡充(物品に記録等されていない画像や建築物の外観や内装のデザインを新たに保護する)、2.関連意匠制度の弾力化(関連意匠の出願期間を延長等する)、3.存続期間の変更(出願から25年へと変更する)、4.出願手続の簡素化(複数の意匠を1件で出願可能にする)といった大きな改正が行われました。
 詳細につきましては、特許庁のウェブサイト(https://www.jpo.go.jp/system/laws/rule/hokaisei/tokkyo/tokkyohoutou_kaiei_r010517.html)もあわせてご参照下さい。
 Japanese Design Act has been revised. Specifically, the Design Act was revised in (1) requirements for designs, (2) related designs system, and (3) the term of design rights.
 Please be careful when applying for design registration in Japan in the future.
tokkyochou.jpg
posted by 中川特許事務所 at 18:06| Comment(0) | 日記